Zeiss Supra 55 VP

Zeiss Supra 55 VP

Das Elektronenmikroskop Zeiss Supra 55 VP ist ein außerordentlich vielseitiges Gerät zur Charakterisierung der Struktur und Zusammensetzung von Materialien auf der Nanometerebene. Die vier verfügbaren bildgebenden Detektoren (drei sensitiv für Sekundärelektronen, einer für rückgestreute Elektronen) arbeiten zum Teil in Vakuum, zum Teil auch bei geringem Druck. Weiters ist das Gerät mit drei Detektoren der Firma Oxford Instruments ausgestattet: Der EDX- und der WDX-Detektor erlauben eine Elementanalyse der Proben. Das Elektronenmikroskop besitzt einen speziellen Hochstrommodus, um bei WDX-Messungen den notwendigen hohen Probenstrom liefern zu können. Ebenso ist der EBSD-Detektor, der die Untersuchung der kristallographischen Orientierung erlaubt, fix in das System integriert. Der letzte Anwendungsbereich, den das Gerät abdecken soll ist die Lithographie: Mit dem ELPHY-System der Firma Raith und einen Mikropositioniertisch der Firma Kammrath & Weiss ist es möglich, große Flächen nahtlos mit einer Positioniergenauigkeit von 100 nm zu belichten.

Geräteverantwortlicher

Bitte kontaktieren Sie Stephan Puchegger wenn Sie weiterführende Informationen benötigen.

Leistungsdaten

Auflösung1,0 nm @ 15 kV
1,7 nm @ 1 kV
3,5 nm @ 0,2 kV
2,0 nm @ 30 kV (VP-Modus)
VP-Vakuum2–133 Pa, in 1-Pa-Schritten justierbar
Vergrößerung12–900.000×
KathodeFeldemissionskathode
Beschleunigungsspannung0,02–30 kV
Probenstrom4 pA–100 nA
DetektorenInlense
Sekundärelektronen
VPSE
4Q–BSD
EDX
WDX
EBSD
Probenkammer330 mm (Ø) × 270 mm (h)
1 EDS port 35° TOA
CCD-Kamera mit IR-Beleuchtung
Motorisierter ProbentischX = 130 mm
Y = 130 mm
X/Y-Positioniergenauigkeit = 2 um
Z = 50 mm
T = −3 bis 70°
R = 360° (kontinuierlich)
MikropositioniertischX = 20 mm
Y = 20 mm
X/Y-Positioniergenauigkeit = 100 nm
PeltiertischTemperaturbereich = −50 bis 100°C