Zeiss Supra 55 VP
Zeiss Supra 55 VP
Das Elektronenmikroskop Zeiss Supra 55 VP ist ein außerordentlich vielseitiges Gerät zur Charakterisierung der Struktur und Zusammensetzung von Materialien auf der Nanometerebene. Die vier verfügbaren bildgebenden Detektoren (drei sensitiv für Sekundärelektronen, einer für rückgestreute Elektronen) arbeiten zum Teil in Vakuum, zum Teil auch bei geringem Druck. Weiters ist das Gerät mit drei Detektoren der Firma Oxford Instruments ausgestattet: Der EDX- und der WDX-Detektor erlauben eine Elementanalyse der Proben. Das Elektronenmikroskop besitzt einen speziellen Hochstrommodus, um bei WDX-Messungen den notwendigen hohen Probenstrom liefern zu können. Ebenso ist der EBSD-Detektor, der die Untersuchung der kristallographischen Orientierung erlaubt, fix in das System integriert.
Geräteverantwortlicher
Bitte kontaktieren Sie Stephan Puchegger wenn Sie weiterführende Informationen benötigen.
Leistungsdaten
Auflösung | 1,0 nm @ 15 kV |
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1,7 nm @ 1 kV | |
3,5 nm @ 0,2 kV | |
2,0 nm @ 30 kV (VP-Modus) | |
VP-Vakuum | 2–133 Pa, in 1-Pa-Schritten justierbar |
Vergrößerung | 12–900.000× |
Kathode | Feldemissionskathode |
Beschleunigungsspannung | 0,02–30 kV |
Probenstrom | 4 pA– einige nA |
Detektoren | Inlense |
Sekundärelektronen | |
VPSE | |
4Q–BSD | |
EDX | |
WDX | |
EBSD | |
Probenkammer | 330 mm (Ø) × 270 mm (h) |
1 EDS port 35° TOA | |
CCD-Kamera mit IR-Beleuchtung | |
Motorisierter Probentisch | X = 130 mm |
Y = 130 mm | |
X/Y-Positioniergenauigkeit = 2 um | |
Z = 50 mm | |
T = −3 bis 70° | |
R = 360° (kontinuierlich) | |
Mikropositioniertisch | X = 20 mm |
Y = 20 mm | |
X/Y-Positioniergenauigkeit = 100 nm | |
Peltiertisch | Temperaturbereich = −50 bis 100°C |